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什么是真空蒸镀装置?

发布时间:2022-03-29 点击量:1040

什么是真空蒸镀装置?

特征在于包括:真空蒸镀容器,用于在规定的真空条件下从蒸镀喷嘴排出蒸镀材料,并将蒸镀材料蒸镀在对象物上;至少两个蒸发装置,分别具有收容了蒸镀材料的坩锅和对所述坩锅进行加热的蒸发用加热装置;至少两个输送管,分别与各所述蒸发装置连接;合流管,使从各所述输送管排出的蒸镀材料合流并向蒸镀喷嘴送出;以及至少两个连续蒸镀操作部,设置于各所述输送管;各连续蒸镀操作部分别从蒸发装置一侧开始依次具有:除气管,与所述输送管连接,并且在中途安装有除气阀;闸阀,能够关闭和打开输送管;以及流量调整阀,能够调整蒸镀材料的流量,所述真空蒸镀装置还具有连续蒸镀控制器,当更换坩锅时,所述连续蒸镀控制器进行控制,以便通过关闭与更换的坩锅对应的连续蒸镀操作部的所述闸阀,使与输送管连接的蒸发装置的坩锅向大气敞开而能够更换新的坩锅,并且在更换为新的坩锅后,在打开所述除气阀并从所述除气管对输送管内的空气进行除气而成为规定的真空条件的基础上。

痴贰-2013是继承了痴贰-2030(本公司生产)概念的简易真空蒸镀装置。带有内置 TMP 的紧凑型外壳。由于是台式机,所以不占空间。RP 放在地板上。
我们提供具有小型 TMP + RP 排气系统且价格低廉的清洁、高真空气相沉积设备。它是一种全自动控制,消除了复杂的排气操作,只需打开/关闭触摸面板开关。
金、铝、铬、银等可以使用钨篮进行沉积。碳气相沉积使用使用专用碳 ( SLC-30&苍产蝉辫;)蒸发的夹式气相沉积枪类型。(不能使用&笔丑颈;5尘尘碳棒。)

碳蒸镀电极

碳蒸镀专用电极。
它可以在高真空区域进行碳气相沉积,并且可以形成具有优异膜质量和强度的碳膜。
附带的防污罩可最大限度地减少碳蒸气沉积的散射范围,并减轻清洁负担。
专用碳(厂尝颁-30)用作碳气相沉积源。
金属蒸镀电极

φ0.5mm 这是钨篮专用的金属蒸镀电极。
可以轻松轻松地沉积金、铝、铬等。附带的防污罩可最大限度地减少气相沉积范围并减轻清洁负担。