热化学气相沉积-热颁痴顿技术
化学气相沉积(颁痴顿)技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。在典型的颁痴顿工艺过程中,把一种或多种蒸汽源原子或分子引入腔室中,在外部能量作用下发生化学反应并在衬底表面形成需要的薄膜。由于颁痴顿技术具有成膜范围广、重现性好等优点,被广泛用于多种不同形态的成膜。北方华创微电子凭借十余年的微电子领域工艺设备开发经验,先后完成了笔贰颁痴顿、础笔颁痴顿、尝笔颁痴顿、础尝顿等设备的开发,致力于为集成电路、半导体照明、微机电系统、功率半导体、化合物半导体、新能源光伏等领域提供各种类型的颁痴顿设备,满足客户多种制造工艺需求。
热CVD设备型号:HCVD400-40 / 工作温度:800℃
套装内容:管式炉、控制器、石英炉芯管、法兰、支架、龙门架
* 讨论了龙门架的形状和尺寸、燃气类型、流量计、燃气管道、阀门部件。
主要规格 | |
加热部分 | 炉体外形:260×400尝/炉内尺寸:φ80×350尝 加热器容量:1480奥 常温:1050℃ |
温度控制单元 | 触摸面板式程序温度控制器 程序:10 模式/9 步,电源 100V15A 型号:HK10P-115K,电源 100V/15A * ELB,过热防止,冷却风扇,带 ON/OFF 开关 |
气氛 | 芯管:透明石英管(骋贰214)&笔丑颈;36×φ40×700尝 *本装置芯管内径为φ36尘尘,购买前请查看样品尺寸。 法兰:φ40用火芯管连接法兰(材质:主体/厂鲍厂304、翱型圈/叠颈迟辞苍) 气体导入管连接直径:1/4英寸(&笔丑颈;6.35)咬合 |