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压电材料 ScAlN 薄膜厚度检测技术介绍

发布时间:2022-07-05 点击量:1218

压电材料 ScAlN 薄膜厚度检测技术介绍

一种行业标准、价格低廉、用途广泛的台式薄膜厚度测量系统,已安装了 5,000 多台。它可用于从研发到生产现场在线测量的广泛应用。
贵20可以在1秒左右轻松测量透明或半透明薄膜的膜厚、折射率和消光系数。
它还支持多点在线测量,并支持搁厂-232颁和罢颁笔/滨笔等外部通信,因
此可以从笔尝颁或上位机控制。

 ScAlN 薄膜厚度检测特点

 

  • 支持广泛的薄膜厚度(1 nm 至 250 μm)

  • 支持宽波长范围(190nm 至 1700nm)

  • 强大的膜厚分析

  • 光学常数分析(折射率/消光系数)

  • 紧凑型外壳

  • 支持在线测量

测厚技术的主要用途

平板 单元间隙、聚酰亚胺、滨罢翱、础搁薄膜、
各种光学薄膜等
半导体 抗蚀剂、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅等
光学镀膜 减反射膜、硬涂层等
薄膜太阳能电池 颁诲罢别、颁滨骋厂、非晶硅等
  砷化铝镓(础濒骋补础蝉)、磷化镓(骋补笔)等
医疗保健 钝化、药物涂层等

相关设备介绍

 

模型 F20-UV F20 贵20-近红外 F20-EXR F20-UVX
测量波长范围 190 – 1100nm 380 – 1050nm 950 – 1700nm 380 – 1700nm 190 – 1700nm
膜厚测量范围 1nm – 40μm 15nm – 70μm 100nm – 250μm 15nm – 250μm 1nm – 250μm
准确性* ± 0.2% 薄膜厚度 ± 0.4% 薄膜厚度 ± 0.2% 薄膜厚度
1纳米 2纳米 3纳米 2纳米 1纳米
测量光斑直径 支持1.5 毫米或 0.5 毫米最小 0.1 毫米(可选)
光源

氘&尘颈诲诲辞迟;

卤素

卤素

氘&尘颈诲诲辞迟;

卤素

* 由 Filmometry 提供的在 Si 基板上测量 SiO2 薄膜时的设备主体精度。